[实用新型]一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座有效
| 申请号： | 201821038225.6 | 申请日： | 2018-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN208334911U | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 何成伟 | 申请（专利权）人： | 协伟集成电路设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人： | 王新爱 |
| 地址： | 201614 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座，本实用新型具有结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，能满足该光刻机对基础座的刚性需求和防微震要求，以及提供其配套设备的安装环境，确保了中国内陆地区在引进干式和沉浸式光刻机的时候，能够提供干式和沉浸式光刻机正常运行所需要的环境，从而保证了该光刻机的顺利引进以及安装运行，对中国内陆地区的整个电子厂特别是半导体厂，使其中国内陆地区整个行业的半导体产品制作工艺水平得到很好改善，并且同时也提速了中国内陆的半导体制造工艺达到国际水平的进程。 | ||
| 搜索关键词： | 干式 沉浸式光刻机 本实用新型 沉浸式光刻 内陆地区 光刻机 微振 半导体制造工艺 半导体产品 生产成本低 安装方便 安装环境 半导体厂 国际水平 配套设备 制作工艺 电子厂 提速 微震 内陆 陆地 进程 保证 | ||
【主权项】：
1.一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座，其特征在于：包括光源媒介基础座(1)、主体单元基础座(2)和晶圆处理单元基础座(3)；所述主体单元基础座(2)的具体结构为：包括主体单元基础座吊装孔内嵌铁块(201)、主体单元基础座防震脚配件(202)、主体单元基础座不锈钢配件(203)、主体单元基础座测试点内嵌铁块(207)、主体单元基础座内嵌配件C型钢(211)和主体单元基础座面体(216)；所述主体单元基础座面体(216)上表面以矩形阵列的方式设有四个主体单元基础座吊装孔内嵌铁块(201)、主体单元基础座防震脚配件(202)和主体单元基础座不锈钢配件(203)；所述主体单元基础座面体(216)四周外侧表面上均固定连接有一个主体单元基础座内嵌配件C型钢(211)；所述主体单元基础座面体(216)上表面上设有一个主体单元基础座测试点内嵌铁块(207)；所述晶圆处理单元基础座(3)的具体结构为：包括晶圆处理单元基础座防震脚配件(31)、晶圆处理单元基础座面体(32)、晶圆处理单元基础座测试点内嵌铁块(33)和晶圆处理单元基础座内嵌配件C型钢(36)；所述晶圆处理单元基础座面体(32)上表面两侧均设有一个晶圆处理单元基础座防震脚配件(31)；所述晶圆处理单元基础座面体(32)上表面上设有一个晶圆处理单元基础座测试点内嵌铁块(33)；所述晶圆处理单元基础座面体(32)外侧表面的四周上均设有一个晶圆处理单元基础座内嵌配件C型钢(36)；所述光源媒介基础座(1)、主体单元基础座(2)和晶圆处理单元基础座(3)之间的具体连接关系为：所述主体单元基础座(2)设置在光源媒介基础座(1)上表面中端位置，所述晶圆处理单元基础座(3)设置在光源媒介基础座(1)上表面右侧位置。
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