[实用新型]一种单片湿法蚀刻工艺的蚀刻液输送装置

摘要

本实用新型目的在于提供一种单片湿法蚀刻工艺的蚀刻液输送装置，包括依次通过输送管路连接的药液槽、循环泵、调温装置、第一节流阀、刻蚀腔和回收阀，回收阀蚀刻液输出端与药液槽的蚀刻液输入端通过输送管路连接，使蚀刻液输送装置形成循环回路，第一节流阀的蚀刻液输出端之后、刻蚀腔的蚀刻液输入端之前，设有连接至药液槽的回流管路，回流管路的蚀刻液输入端管路从上方接入第一节流阀的蚀刻液输出端之后的输送管路，并在第一节流阀的蚀刻液输出端与刻蚀腔的蚀刻液输入端之间设有第二节流阀。本实用新型确保药液槽内的温度稳定，减少进入刻蚀腔的气泡，保证工艺流量，保证蚀刻速率的稳定，使湿法蚀刻硅更加均匀，提高湿法蚀刻硅厚度的可控性。

主权项

1.一种单片湿法蚀刻工艺的蚀刻液输送装置，包括依次通过输送管路连接的药液槽、循环泵、调温装置、第一节流阀、刻蚀腔和回收阀，所述回收阀的蚀刻液输出端与药液槽的蚀刻液输入端通过输送管路连接，使所述蚀刻液输送装置形成循环回路，其特征在于：所述第一节流阀的蚀刻液输出端之后、刻蚀腔的蚀刻液输入端之前，设有连接至药液槽的回流管路。