[发明专利]坩埚喷嘴结构、坩埚以及清理喷嘴的方法在审
| 申请号： | 201811544604.7 | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN109554668A | 公开（公告）日： | 2019-04-02 |
| 发明（设计）人： | 孙力 | 申请（专利权）人： | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 230011 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种坩埚喷嘴结构、坩埚以及清理喷嘴的方法，涉及显示技术领域，主要目的是用于更加方便的清理坩埚喷嘴装置上的凝结物。本发明的主要技术方案为：一种坩埚喷嘴装置，包括：喷嘴本体，所述喷嘴本体具有喷孔，所述喷孔内还套设有围绕所述喷孔内壁一周的套件，所述套件的的径向截面为多边形形状。本发明主要用于进行真空热蒸镀工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚喷嘴 喷孔 喷嘴本体 喷嘴 套件 坩埚 多边形形状 真空热蒸镀 径向截面 凝结物 内壁 | ||
【主权项】：
1.一种坩埚喷嘴装置，其特征在于，包括：喷嘴本体，所述喷嘴本体具有喷孔，所述喷孔内还套设有围绕所述喷孔内壁一周的套件，所述套件的的径向截面为多边形形状。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811544604.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
