[发明专利]光谱分析模型的构建方法、装置、设备及存储介质有效

专利信息
申请号: 201811440483.1 申请日: 2018-11-28
公开(公告)号: CN109492707B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 牟怿;周龙;杨超;郭亦凡;陈浩 申请(专利权)人: 武汉轻工大学
主分类号: G06K9/62 分类号: G06K9/62;G01N21/35
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 430023 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种光谱分析模型的构建方法、装置、设备及存储介质,所述方法包括:获取历史光谱的样本数据中的样本信息以及特征信息中提取第一数据集参考参数和第二数据集参考参数;获取预设轴向量信息,根据所述预设轴向量信息、第一数据集参考参数以及第二数据集参考参数建立预设原始模型;根据拉格朗日算法对所述预设原始模型中的各个参数进行计算,得到对应的主成分信息;根据所述主成分信息建立预设回归模型,并进行计算,得到目标光谱分析模型。本发明通过预设模型获取样本数据中的主成分数据,通过主成分数据对所述预设回归模型进行计算,得到目标光谱分析模型,从而降低噪声和异常样本对模型的影响,达到提高模型精度的目的。
搜索关键词: 光谱分析 模型 构建 方法 装置 设备 存储 介质
【主权项】:
1.一种光谱分析模型的构建方法,其特征在于,所述光谱分析模型的构建方法包括:获取历史光谱的样本数据,提取所述样本数据中的样本信息以及特征信息;从所述样本信息中提取第一数据集参考参数,且从所述特征信息中提取第二数据集参考参数;获取预设轴向量信息,根据所述预设轴向量信息、第一数据集参考参数以及第二数据集参考参数建立预设原始模型;根据拉格朗日算法对所述预设原始模型中的各个参数进行计算,得到所述第一数据集参考参数以及第二数据集参考参数对应的主成分信息;根据所述主成分信息建立预设回归模型,将所述第一数据集参考参数以及第二数据集参考参数放入所述预设回归模型进行计算,得到目标光谱分析模型。
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