[发明专利]阵列样品激光加热系统有效
| 申请号： | 201811348693.8 | 申请日： | 2018-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN109352182B | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 刘茜;余野建定;汪超越;李勤;徐小科;周真真 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | G01N1/44 | 分类号： | G01N1/44 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;姚佳雯 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明所提供的阵列样品激光加热系统包括：输出激光以提供加热能量的激光光源单元，其具备并列或阵列排布的多个激光器；设于所述激光光源单元下游以改变激光光斑尺寸的激光束斑调节单元；用于放置阵列样品的样品台；用于对待加热阵列样品的激光加热温度测温并反馈加热效果的温度测量单元；用于记录实验结果的图像记录单元；与所述激光光源单元、温度测量单元、和图像记录单元等相连接的总控单元。本发明能够实现多光束并行、束斑可调的激光加热，用于对材料基因工程所需的材料阵列样品的快速定向加热。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 样品 激光 加热 系统 | ||
【主权项】：
1.一种阵列样品激光加热系统，其特征在于，包括：输出激光以提供加热能量的激光光源单元，其具备并列或阵列排布的多个激光器；设于所述激光光源单元下游以改变激光光斑尺寸的激光束斑调节单元；用于放置阵列样品的样品台；用于对待加热阵列样品的激光加热温度测温并反馈加热效果的温度测量单元；用于记录实验结果的图像记录单元；与所述激光光源单元、温度测量单元和图像记录单元相连接的总控单元。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所，未经中国科学院上海硅酸盐研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811348693.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：激光烧蚀金属材料作用时间测试装置及方法
- 下一篇：一种自动打标装置
