[发明专利]一种均匀加热的辐射烤炉

摘要

一种均匀加热的辐射烤炉，包括：烤架、辐射装置和底座，辐射装置为中空体，辐射装置固定在底座上，辐射装置包括：外壳、多个辐射体和通气管道，多个辐射体位于外壳的内部，辐射体从辐射装置的上端延伸至下端，通气管道位于辐射体与外壳之间，辐射装置具有上开口，烤架与上开口正对，栅格烤板与辐射装置的上端的距离大于零，且栅格烤板与辐射装置的上端的距离小于或等于栅格烤板与辐射装置的下端的距离。上述辐射烤炉不仅可以实现对食物进行红外线烘烤加热，而且加热均匀，用户无需在烹饪过程中过多翻转食物，使用方便。

主权项

1.一种均匀加热的辐射烤炉，所述烤炉包括：烤架、辐射装置和底座，所述辐射装置为中空体，所述辐射装置固定在所述底座上，所述辐射装置包括：外壳、多个辐射体和通气管道，多个辐射体位于所述外壳的内部，其特征在于：所述辐射体从所述辐射装置的上端延伸至下端，所述通气管道位于所述辐射体与所述外壳之间，所述辐射装置具有上开口，所述烤架与所述上开口正对，所述烤架包括：栅格烤板，所述栅格烤板与所述辐射装置的上端的距离大于零，且所述栅格烤板与所述辐射装置的上端的距离小于或等于所述栅格烤板与所述辐射装置的下端的距离。