[发明专利]一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2有效

专利信息
申请号: 201811212909.8 申请日: 2018-10-18
公开(公告)号: CN109234728B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 孙顺平;顾顺;胡益丰;王洪金;张扬 申请(专利权)人: 江苏理工学院
主分类号: C23C24/10 分类号: C23C24/10;C23C14/35;C23C14/16;C23C28/04
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 王巍巍
地址: 213001 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明属于难熔金属表面激光熔覆技术领域,具体涉及一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2涂层的方法。首先在钼合金表面溅射20~30μm厚度的Si薄层,然后再预置硅化物合金粉末,通过激光扫描将钼合金、溅射Si薄层、预置硅化物合金粉末结合起来,可得到力学性能优异、且与钼合金结合良好的MoSi2涂层。本发明制备的钼合金表面MoSi2涂层由于采用磁控溅射Si薄层,随后通过激光熔覆工艺可以形成Mo‑Si元素过渡层,能够改善钼合金和MoSi2涂层之间的结合强度。另一方面,采用激光熔覆工艺在溅射Si薄层的钼合金表面制备硅化物涂层,涂层组织均匀致密、结合良好,且由于多元合金化作用,可以提高涂层的服役性能。
搜索关键词: 一种 合金 表面 激光 制备 mosi base sub
【主权项】:
1.一种钼合金表面激光熔覆制备MoSi2涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)对钼合金薄板进行表面抛光,并清洗、烘干;(2)通过磁控溅射在步骤(1)获得的钼合金薄板上溅射Si薄层;(3)将含硅合金粉末进行球磨;(4)将步骤(3)获得的含硅合金粉末预置在步骤(2)获得的溅射Si薄层的钼合金上;(5)采用激光器对步骤(4)获得的预置合金粉末的钼合金进行激光扫描,制成表面MoSi2涂层。
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