[发明专利]一种制备粗晶铁锰硅基形状记忆合金的方法有效
申请号: | 201811193766.0 | 申请日: | 2018-10-15 |
公开(公告)号: | CN109457091B | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 彭华备;雍立秋;王勇宁;文玉华 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | C21D6/00 | 分类号: | C21D6/00;C22C38/02;C22C38/06;C22C38/42;C22C38/44;C22C38/46;C22C38/48;C22C38/50;C22C38/52;C22C38/58 |
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地址: | 610065 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种制备粗晶铁锰硅基形状记忆合金的方法,属形状记忆合金领域。本发明制备的铁锰硅基形状记忆合金的奥氏体晶粒平均尺寸≥1毫米。具体步骤如下:(1)先将铁锰硅基形状记忆合金在1260℃~1300℃处理5分钟至1小时;(2)然后循环以下处理过程不低于一次:以0.1℃每分钟~10℃每分钟的速度冷却至1100℃~1200℃并处理5分钟至30分钟;接着以0.1℃每分钟~10℃每分钟的速度加热至1260℃~1300℃并处理5分钟至1小时;(3)最后以0.1℃每分钟~5℃每分钟的速度冷却至1150℃~1200℃后水冷至室温。 | ||
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【主权项】:
1.一种制备粗晶铁锰硅基形状记忆合金的方法,其特征在于,所述铁锰硅基形状记忆合金含有Fe、Mn、Si和Cr元素,并包含Ni、Ti、Nb、Cu、Co、V、Mo、Al、C和N元素中的一种或多种,合金中各元素的重量百分比含量为:Mn 12~32%,Si 4~7%,Cr 0~14%,Ni 0~8%,Ti 0~1%,Nb0~2%,Cu 0~1%,Co 0~2%,V 0~2%,Mo 0~2%,Al 0~3%,C 0~0.2%,N 0~0.2%,余为Fe和不可避免的杂质;具体步骤如下:/n(1)先将铁锰硅基形状记忆合金在1260℃~1300℃处理5分钟至1小时;/n(2)然后循环以下处理过程不低于一次:以0.1℃每分钟~10℃每分钟的速度冷却至1100℃~1200℃并处理5分钟至30分钟;接着以0.1℃每分钟~10℃每分钟的速度加热至1260℃~1300℃并处理5分钟至1小时;/n(3)最后以0.1℃每分钟~5℃每分钟的速度冷却至1150℃~1200℃后水冷至室温。/n
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