[发明专利]温度传感器制备方法及温度传感器在审

专利信息
申请号: 201810989109.0 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN110862063A 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 苏佳乐;张新伟;周国平;夏长奉 申请(专利权)人: 无锡华润上华科技有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B1/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 吴平
地址: 214028 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种温度传感器制备方法,包括:在硅片形成若干沟槽;热退火使若干沟槽变形后相互连通形成一空腔,且硅片在空腔上方连接起来,将空腔封闭;氧化空腔上部的硅片得到氧化硅薄膜;在氧化硅薄膜上形成测温单元。通过该制备方法得到的温度传感器,其氧化硅薄膜与硅之间形成有空腔,可通过空腔隔离,无需通过深刻蚀工艺将多余的硅刻蚀掉,因此节省了制备时间,节约了制备成本。本发明还涉及一种温度传感器。
搜索关键词: 温度传感器 制备 方法
【主权项】:
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