[发明专利]有机硅产品中金属杂质的测定方法在审

专利信息
申请号: 201810926859.3 申请日: 2018-08-15
公开(公告)号: CN110836888A 公开(公告)日: 2020-02-25
发明(设计)人: 田青松;李娟;丁嘉蕾;宋娟;杨珊;殷加伟 申请(专利权)人: 张家港市国泰华荣化工新材料有限公司
主分类号: G01N21/73 分类号: G01N21/73;G01N1/44
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 黄春松
地址: 215634 江苏省苏州市张家港市扬子江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种有机硅产品中金属杂质的测定方法,包括以下步骤,一、配置若干梯度浓度的标准溶液;二、样品处理:取待测样品,加热,加入浓硫酸,待测样品与浓硫酸完全反应后加入HF,持续加热,待气体挥发完全后,冷却至室温,加入稀释剂稀释、定容得待测样品溶液;三、不取待测样品,重复第二步中的其余步骤,得制备空白;四、使用电感耦合等离子体发射光谱仪,分别输入标准溶液的浓度值、待测样品溶液稀释的倍数,依次测定分析空白、标准溶液、制备空白以及待测样品溶液,分析空白为稀释剂,以测定若干标准溶液作为标准曲线,采用外标法得出待测样品溶液中金属杂质的含量。本发明的优点在于:准确性高、稳定性好且能避免其他杂质的干扰。
搜索关键词: 有机硅 产品 金属 杂质 测定 方法
【主权项】:
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