[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201810837809.8 申请日: 2018-07-26
公开(公告)号: CN109003941B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 杜建华;王鑫;强朝辉;高宇鹏 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,涉及显示技术领域,利用导电层焦耳热诱导非晶硅转化为多晶硅,不需要ELA设备,可降低成本、简化工艺。该制备方法包括:提供衬底基板;衬底基板的表面包括至少一个预设区域;在表面上方依次形成导电层、隔离层和非晶硅层,在表面上的正投影均覆盖预设区域;对非晶硅层进行构图工艺处理,形成位于预设区域内的多个非晶硅图案;在导电层上施加电压,通过使导电层发热诱导多个非晶硅图案结晶转化为多个多晶硅图案;或者,在导电层上施加电压,通过使导电层发热诱导非晶硅层位于预设区域内的部分转化为多晶硅层;对多晶硅层进行构图工艺处理,形成位于预设区域内的多个多晶硅图案。
搜索关键词: 显示 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
1.一种显示基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供衬底基板;所述衬底基板的表面包括至少一个预设区域;在所述表面上方依次形成导电层、隔离层和非晶硅层;其中,所述导电层、所述隔离层和所述非晶硅层在所述表面上的正投影均覆盖所述预设区域;对所述非晶硅层进行构图工艺处理,形成位于所述预设区域内的多个非晶硅图案;在所述导电层上施加电压,通过使所述导电层发热诱导所述多个非晶硅图案结晶转化为多个多晶硅图案;或者,在所述导电层上施加电压,通过使所述导电层发热诱导所述非晶硅层位于所述预设区域内的部分转化为多晶硅层;对所述多晶硅层进行构图工艺处理,形成位于所述预设区域内的多个多晶硅图案。
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