[发明专利]面光源及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201810826458.0 申请日: 2018-07-25
公开(公告)号: CN108987554A 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 杨勇 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L33/58 分类号: H01L33/58;H01L27/15
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请公开了一种面光源及其制备方法、显示装置,该制备方法包括:提供具有多个LED芯片的衬底基板;在衬底基板上形成荧光膜层;采用喷涂或钢网刷涂的工艺在荧光膜层上制备弧状微结构,其中,弧状微结构和LED芯片对应设置,用以改变LED芯片出射光的形状;固化弧状微结构以形成面光源。通过上述方式,本申请能够使LED芯片在发光角度范围内的光线分布更加均匀,从而提升面光源的亮度均匀性。
搜索关键词: 制备 微结构 弧状 衬底基板 显示装置 荧光膜层 面光源 光源 亮度均匀性 光线分布 出射光 提升面 形成面 钢网 喷涂 刷涂 固化 申请 发光
【主权项】:
1.一种面光源的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:提供具有多个LED芯片的衬底基板;在所述衬底基板上形成荧光膜层;采用喷涂或钢网刷涂的工艺在所述荧光膜层上制备弧状微结构,其中,所述弧状微结构和所述LED芯片对应设置,用以改变所述LED芯片出射光的形状;固化所述弧状微结构以形成所述面光源。
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