[发明专利]一种基于硅模板构建具有多级形貌的聚吡咯薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种基于硅模板构建具有多级形貌的聚吡咯薄膜的方法。其制备过程包括：首先将PDMS预聚体和交联剂的混合物浇筑于硅模板上，加热固化得到具有硅模板图案的PDMS印章，然后在其表面沉积一定厚度的聚吡咯(PPy)薄膜，可得到具有多级皱纹结构的PPy薄膜。通过调整不同的反应时间可得到不同表面形貌的PPy薄膜，反应时间越长，所得到的皱纹周期越大。本发明方法克服了之前制备过程复杂，过程可控性差的缺点。本发明利用简单的操作方式，得到了导电聚合物的多级形貌，避免了之前光刻等图案化发法操作复杂、花费高昂、图案不均匀、小面积等缺点。

主权项

1.一种基于硅模板构建具有多级形貌的聚吡咯薄膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：将PDMS预聚体与交联剂按照质量比为10:1混合后，倒入离心管中，搅拌形成均匀的混合物；步骤二：将PDMS预聚体与交联剂的混合物进行真空脱气处理1h后倒入放有硅模板的方形容器中，并均匀地分布；步骤三：将倒入容器中的预聚体与交联剂的混合物进行真空脱气处理30min，后放入烘箱中，在70℃下加热固化4h，制得有硅模板图案的PDMS印章；步骤四：按照质量体积比为6.5～7.0mg/ml将吡咯单体溶解在盐酸中，超声混匀得到溶液A，按照质量体积比为30～35mg/ml将氯化铁溶解在盐酸中，超声混匀得到溶液B；步骤五：将步骤四制得的溶液A转移至盛放有PDMS印章的培养皿中，然后加入步骤四制得的溶液B，其中，溶液A与溶液B的体积比为1:1，均匀混合后放入温度为2～5℃的冰箱内反应30min‑7h；步骤六：反应结束后从冰箱中取出容器，倒去残余液体，并用蒸馏水冲洗干净，干燥，最后得到具有多级皱纹结构的聚吡咯薄膜。