[发明专利]一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺

摘要

本发明公开了一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置及其防护工艺，涉及镀膜技术领域。本发明包括反应室、废气回收装置、惰性气体存储装置、溶液气化装置和废液回收装置；废气回收装置、惰性气体存储装置、溶液气化装置和废液回收装置均通过管道和反应室连接。本发明通过在密封环境下对磁铁切片进行化学镀镍，镀层具有厚度均匀、化学稳定性高、结合力好、硬度高和耐磨性好的优点；通过在反应室中注入惰性气体，将反应室中的空气排出，提高镀层的稳定性；通过对反应液体进行气化处理，提高磁铁切片表面镀层的均匀性。

主权项

1.一种用于钕铁硼永磁材料的镀膜装置，包括反应室(1)、废气回收装置(2)、惰性气体存储装置(3)、溶液气化装置(4)和废液回收装置(5，其特征在于：所述废气回收装置(2)、惰性气体存储装置(3)、溶液气化装置(4)和废液回收装置(5)均通过管道和反应室(1)连接；所述管道上设置有阀门；其中，所述反应室(1)包括反应室箱体(101)、加热层(102)、密封门(106)和承料板(107)；所述反应室(1)的两端分别固定有密封门(106)；所述反应室(1)内壁设置有若干平行的托脚(108)；所述托脚(108)的上方设置有若干输料孔(105)；所述输料孔(105)通过阀门(K3)和溶液气化装置(4)连接；所述衬底(108)上放置有承料板(107)；所述加热层(102)设置在反应室箱体(101)的内部底侧；所述反应室箱体(101)的底部设置有排料口(103)；所述排料口(103)通过阀门(K2)和废液回收装置(5)连接；所述反应室箱体(101)的顶部设置有进气口(104)；所述进气口(104)通过阀门(K4)和惰性气体存储装置(3)连接；所述反应室箱体(101)的侧面底部设置有排气口(109)；所述排气口(109)通过阀门(K1)和废气回收装置(2)连接。