[发明专利]真空排气装置、真空泵及真空阀有效
申请号: | 201810509862.5 | 申请日: | 2018-05-24 |
公开(公告)号: | CN108930656B | 公开(公告)日: | 2021-01-01 |
发明(设计)人: | 武田直也 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | F04D19/04 | 分类号: | F04D19/04;F04D27/00;F04D29/00 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本京都府京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种真空排气装置、真空泵及真空阀,真空排气装置可抑制大型化且可实现实效排气速度的提高。真空阀(2)将排气口凸缘(202的开口径设定为大于吸气口凸缘(201)的开口径,并且具有包含排气口凸缘(202)的开口且流路剖面积发生变化的气体流路区域(FR),气体流路区域(FR)将上游侧区域端的流路剖面积设定为吸气口凸缘(201)的开口剖面积,且越临近排气口凸缘(202)的开口,流路剖面积越增加。 | ||
搜索关键词: | 真空 排气装置 真空泵 | ||
【主权项】:
1.一种真空阀,其特征在于包括:阀吸气口凸缘,设置于阀体;阀排气口凸缘,设置于所述阀体且与所述阀吸气口凸缘相比开口径大;阀板,设置于所述阀体内且与所述阀吸气口凸缘的开口径对应;阀驱动部,使所述阀板在配置于所述阀吸气口凸缘的中心轴上的关闭位置与自所述中心轴上退避的打开位置之间滑动驱动;以及气体流路区域,包含所述阀排气口凸缘的开口且流路剖面积发生变化,并且所述气体流路区域将上游侧区域端的流路剖面积设定为所述阀吸气口凸缘的开口剖面积,且越临近所述阀排气口凸缘的开口,流路剖面积越增加。
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