[发明专利]掩膜板及其制备方法在审
| 申请号： | 201810277643.9 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108456846A | 公开（公告）日： | 2018-08-28 |
| 发明（设计）人： | 李伟丽 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 王乐 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种掩膜板及其制备方法。其中掩膜板包括掩膜框架和固定设置在掩膜框架上的掩膜，掩膜上设置有具有多个用于显示的像素开孔的第一区域、以及围绕第一区域设置的具有多个第一辅助像素开孔的第二区域，而第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于第一区域中的像素开孔的尺寸。本申请通过在掩膜上围绕第一区域设置第二区域，并使得第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于第一区域中的像素开孔的尺寸，从而使得FMM从未刻蚀区到全刻蚀区之间的强度介于两者之间，进而使应力发生渐变，到AA区(包括第一区域和第二区域)之后逐渐的减缓，从而防止AA区发生折伤，以达到平衡FMM的强度和均匀性的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 第一区域 开孔 第二区域 掩膜 辅助像素 掩膜板 像素 刻蚀 制备 固定设置 均匀性 渐变 申请 平衡 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜板，其特征在于，包括：掩膜框架；固定设置在所述掩膜框架上的掩膜，所述掩膜上设置有具有多个用于显示的像素开孔的第一区域、以及围绕所述第一区域设置的具有多个第一辅助像素开孔的第二区域，所述第二区域中第一辅助像素开孔的尺寸小于所述第一区域中用于显示的像素开孔的尺寸。
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