[发明专利]涂敷装置和涂敷方法

摘要

本发明提供一种能够提高基片的位置控制性的涂敷装置。该涂敷装置，其使功能液的液滴在基片的着液位置在主扫描方向和副扫描方向上移动，在基片上描绘功能液的描绘图案，包括：利用气体的风压使基片浮起在规定的高度的台部；液滴排出部，其向浮起在距台部规定的高度的基片滴注功能液的液滴；主扫描方向移动部，其保持浮起在距台部规定的高度的基片并且使该基片在主扫描方向上移动；和副扫描方向移动部，其使液滴排出部相对于浮起在距台部规定的高度的基片在副扫描方向上移动，在反复进行主扫描方向移动部使基片在主扫描方向上移动并且液滴排出部滴注液滴的处理期间，副扫描方向移动部使液滴排出部在副扫描方向上移动。

主权项

1.一种涂敷装置，其使基片的功能液的液滴的着液位置在主扫描方向和副扫描方向上移动，在所述基片上描绘所述功能液的描绘图案，所述涂敷装置的特征在于，包括：利用气体的风压使所述基片浮起在规定的高度的台部；液滴排出部，其向浮起在距所述台部规定的高度的所述基片滴注所述功能液的液滴；主扫描方向移动部，其保持浮起在距所述台部规定的高度的所述基片并且使所述基片在所述主扫描方向上移动；和副扫描方向移动部，其使所述液滴排出部相对于浮起在距所述台部规定的高度的所述基片在所述副扫描方向上移动，反复进行所述主扫描方向移动部使所述基片在所述主扫描方向上移动并且所述液滴排出部滴注所述液滴的处理期间，所述副扫描方向移动部使所述液滴排出部在所述副扫描方向上移动。