[发明专利]一种具有微纳米沟槽结构的低表面能材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810057856.0 申请日: 2018-01-22
公开(公告)号: CN108250941B 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 崔向红;张晓臣;刘晓东;苏桂明 申请(专利权)人: 黑龙江省科学院高技术研究院
主分类号: C09D175/14 分类号: C09D175/14;C09D5/08;C09D5/16;C09D7/62;C08G18/32;C08G18/65;C08G18/69;C08G18/58;C08G18/10
代理公司: 哈尔滨市文洋专利代理事务所(普通合伙) 23210 代理人: 王艳萍
地址: 150020 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种具有微纳米沟槽结构的低表面能材料及其制备方法,本发明涉及低表面能材料及其制备方法。本发明是要解决现有的有机硅树脂低表面能材料与基体间附着力差、耐溶剂性能差、固化时间长及有机氟树脂的低表面能材料价格昂贵、工艺复杂的技术问题。本发明的材料为独立包装的A、B双组分组成,A组分为环氧化端羟基聚丁二烯型聚氨酯、用硅烷偶联剂处理过的玄武岩鳞片纤维的混合物,B组分是固化剂。制法:一、制备环氧化端羟基聚丁二烯型聚氨酯;二、用硅烷偶联剂处理玄武岩鳞片纤维:三、将环氧化端羟基聚丁二烯型聚氨酯脱泡,加入用硅烷偶联剂处理过的玄武岩鳞片纤维,混合均匀为A组分;B组份单独包装。本发明是材料的静态水接触角可达110°以上,可用于防腐领域。
搜索关键词: 一种 具有 纳米 沟槽 结构 表面 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种具有微纳米沟槽结构的低表面能材料,其特征在于该材料由64%~74.75%的环氧化端羟基聚丁二烯型聚氨酯、0.25%~1.0%用硅烷偶联剂处理过的玄武岩鳞片纤维和25%~35%的固化剂组成;其中环氧化端羟基聚丁二烯型聚氨酯与用硅烷偶联剂处理过的玄武岩鳞片纤维的混合物为A组份,固化剂为B组份,A、B组份分别独立包装。
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