专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种高电气强度的聚脲基防污闪新材料其及制备方法-CN202310738120.0在审
  • 谭新玉;李旭;陈卫枫;黎涛;刘双全;谭鑫 - 三峡大学
  • 2023-06-20 - 2023-10-27 - C09D175/02
  • 本发明公开了一种高电气强度的聚脲基防污闪新材料的制备方法。该方法通过微纳米二氧化硅改性聚脲弹性体从而获得一种高体积电阻率、高介电强度、低介电常数,低介质损耗的复合材料,在沿面闪络试验中表现突出。该制备方法首先将带氨基的硅烷偶联剂将不同粒径比例的微纳米SiO2进行改性;然后将异氰酸酯预聚物与改性SiO2进行化学接枝,再引入聚脲树脂。固化成膜后将样品在疏水改性液中浸泡后烘干,制得具有高电气强度的防污闪性能的改性聚脲。该发明通过引入不同粒径的微纳米SiO2提高了复合涂层的润湿性能,使该涂层具有较好的电气强度和机械性能,在绝缘子闪络试验中发现其闪络电压较高,扩大了聚脲在电气领域的应用范围。
  • 一种电气强度聚脲基防污新材料制备方法
  • [发明专利]绝缘层形成用树脂清漆-CN202180092573.X在审
  • 斋田纮平;甲贺敏美;藤仓裕一;渡部贵智;松井克文;菅原润;松浦裕纪 - 东特涂料株式会社;住友电工运泰克株式会社
  • 2021-02-26 - 2023-09-29 - C09D175/02
  • 一种绝缘层形成用树脂清漆,包含第一异氰酸酯化合物、第二异氰酸酯化合物以及聚酰胺酰亚胺胺化合物,上述第一异氰酸酯化合物在分子中包含至少一个三嗪三酮环结构和与上述三嗪三酮环结构的三个氮各自键合的在末端具有封端异氰酸酯基的侧链,上述封端异氰酸酯基为由下述化学式1表示的官能团,上述第二异氰酸酯化合物在分子中包含在末端具有上述封端异氰酸酯基的至少两个末端链和除了上述封端异氰酸酯基中的氨基甲酸酯结构以外的至少两个氨基甲酸酯结构,上述第二异氰酸酯化合物在分子中不包含三嗪三酮环结构,上述聚酰胺酰亚胺胺化合物在分子中包含至少一个酰胺酰亚胺结构和与上述酰胺酰亚胺结构的氮键合的在末端具有至少一个氨基的结构。在所述化学式1中,R为惰性基团。#imgabs0#
  • 绝缘形成树脂清漆
  • [发明专利]一种水性聚天冬氨酸酯聚脲美缝剂及其制备方法-CN202310185518.6有效
  • 张宏强 - 山东卓高新材料有限公司
  • 2023-03-01 - 2023-09-26 - C09D175/02
  • 本发明公开了一种水性聚天冬氨酸酯聚脲美缝剂及其制备方法,通过将改性聚天冬氨酸酯和六亚甲基二异氰酸酯反应形成异氰酸酯基封端,制得聚天冬氨酸酯聚脲低聚物,再用异佛尔酮二异氰酸酯和2,2‑二羟甲基丙酸扩链,再用改性填料和乙二胺进一步扩链封端,制得美缝剂,改性聚天冬氨酸酯链中含有有机硅链段且侧链含有氟链,同时自身分子结构为螺旋状,在美缝剂使用过程中,能在表面形成一次致密的疏水膜,且螺旋结构使得美缝剂的机械性能有了一定提升,裸露在表面的改性载体上的二氧化钛能够与疏水膜达到很好的自清洁效果,使得美缝剂不易出现被污渍侵蚀,保证了美缝剂的美观。
  • 一种水性天冬氨酸酯聚脲美缝剂及其制备方法
  • [发明专利]一种高韧高强的聚脲纳米涂层-CN202211471951.8有效
  • 李跃辉;李伟;林志斌 - 上海涓微新材料科技有限公司
  • 2022-11-23 - 2023-09-26 - C09D175/02
  • 本发明属于高分子材料领域,为一种聚脲材料,具体涉及一种高韧高强的聚脲纳米涂层,包括以下质量份的组成:A组分:异氰酸酯1 80‑90份,异氰酸酯2 10‑15份,聚醚多元醇50‑60份,聚硅氧烷多元醇5‑90份;R组分:端氨基聚醚80‑90份,二胺扩链剂1 40‑50份,二胺扩链剂2 10‑20份,改性纳米二氧化钛20‑35份;其中,A组分和R组分的NCO指数为1‑1.1;得到的聚脲纳米同时具有高韧高强的性质,并且可应用于低温环境,应用领域广泛。
  • 一种高强纳米涂层
  • [发明专利]一种可自修复的双组份喷涂天冬聚脲涂料及其制备方法-CN202310678293.8在审
  • 王占华;何羽;夏和生;赖佳亮 - 四川大学
  • 2023-06-09 - 2023-09-05 - C09D175/02
  • 本发明属于聚脲涂料制备领域,具体涉及一种可自修复双组份喷涂天冬聚脲涂料的制备方法。所述的A组份制备方法为:(1)端氨基化合物和异氰酸酯化合物在60℃~90℃反应2~5小时,待反应完全后,真空脱气泡,降温后出料密封,即得A组份;所述的B组份制备方法为:(2)二胺化合物和马来酸酯在60℃~90℃反应2~5小时,待反应完全后,进行冷却降温,待冷却到室温时,加入助剂,搅拌1小时后真空脱气泡,研磨机研磨、过滤、装桶、包装,即得B组分。将所制得的组份A和组份B按比混合后即可均匀喷涂于基底材料表面,固化后形成高强度膜,该涂料较传统涂料相比,具有优良的伸长率、黏附强度及自修复性能。
  • 一种修复双组份喷涂天冬涂料及其制备方法

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