[发明专利]掩模板及其使用方法、曝光设备

摘要

本发明提供了一种掩模板及其使用方法、曝光设备，属于显示技术领域。其中，掩模板，包括：阵列排布的多个掩模单元，每一掩模单元包括遮光状态和透光状态；控制单元，用于控制每一所述掩模单元在遮光状态和透光状态之间进行切换。通过本发明的技术方案，能够使得同一掩模板适用于不同显示产品的封框胶的固化。

主权项

1.一种掩模板，其特征在于，包括：

阵列排布的多个掩模单元，每一掩模单元包括遮光状态和透光状态；

控制单元，用于控制每一所述掩模单元在遮光状态和透光状态之间进行切换。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模单元包括：

容纳腔；

位于所述容纳腔底部的遮光溶液；

位于所述容纳腔顶部的透光气囊，在所述透光气囊的体积小于第一阈值时，所述遮光溶液平铺在所述容纳腔底部，所述掩模单元处于遮光状态；在所述透光气囊的体积大于第二阈值时，所述透光气囊将所述遮光溶液挤压至所述容纳腔边缘处，所述掩模单元处于透光状态，所述第二阈值大于所述第一阈值。

3.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述控制单元包括：

与所述透光气囊连通的通气管路；

设置在通气管路上的气阀；

控制器，用于控制所述气阀的关闭和打开，以控制所述通气管路向所述透光气囊通入气体使所述透光气囊的体积大于第二阈值或排出所述透光气囊内的气体使所述透光气囊的体积小于第一阈值。

4.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述遮光溶液为含有黑色染料的有机溶液。

5.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述容纳腔呈立方体状或圆柱体状。

6.根据权利要求2所述的掩模板，其特征在于，所述遮光溶液的体积为所述容纳腔容量的1/5‑1/7。

7.一种如权利要求1‑6中任一项所述的掩模板的使用方法，其特征在于，包括：

确定所需要的掩模图形；

控制与所需要的掩模图形对应的第一掩模单元处于遮光状态，控制与所需要的掩模图形对应的第一掩模单元之外的第二掩模单元处于透光状态。

8.根据权利要求7所述的掩模板的使用方法，其特征在于，应用于如权利要求2所述的掩模板，所述控制与所需要的掩模图形对应的第一掩模单元处于遮光状态，控制与所需要的掩模图形对应的第一掩模单元之外的第二掩模单元处于透光状态包括：

控制所述第一掩模单元的透光气囊的体积大于第二阈值，控制所述第二掩模单元的透光气囊的体积小于第一阈值。

9.根据权利要求8所述的掩模板的使用方法，其特征在于，应用于如权利要求3所述的掩模板，所述控制所述第一掩模单元的透光气囊的体积大于第二阈值包括：

控制与所述第一掩模单元的透光气囊对应的气阀打开，通过与所述第一掩模单元的透光气囊连通的通气管路向所述第一掩模单元的透光气囊通入气体，使得所述第一掩模单元的透光气囊的体积大于第二阈值；

所述控制所述第二掩模单元的透光气囊的体积小于第一阈值包括：

在所述第二掩模单元的透光气囊的初始体积小于第一阈值时，控制与所述第二掩模单元的透光气囊对应的气阀关闭；在所述第二掩模单元的透光气囊的初始体积大于第一阈值时，控制与所述第二掩模单元的透光气囊对应的气阀打开，通过与所述第二掩模单元的透光气囊连通的通气管路排出所述第二掩模单元的透光气囊中的气体，使得所述第二掩模单元的透光气囊的体积小于第一阈值。

10.一种曝光设备，其特征在于，包括如权利要求1‑6中任一项所述的掩模板。