[发明专利]掩模版及其制备方法、显示面板及其制备方法有效
申请号: | 201810002704.0 | 申请日: | 2018-01-02 |
公开(公告)号: | CN108169999B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 徐鹏;吴建鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种掩模版及其制备方法、显示面板及其制备方法,涉及模具制作技术领域,能够解决现有技术制作掩模版时资源浪费严重的问题。本发明的掩模版包括:基础模具单元和至少一个连接构件;在所述基础模具单元包括第一连接区域;层叠设置的所述连接构件包括第二连接区域以及非连接区域,其中,所述基础模具单元与连接构件通过第一连接区域与第二连接区域相连接,所述非连接区域的外形与所述基础模具单元的外形构成所述掩模版所需的目标形状。本发明的掩模版通用于制作常规形状的显示面板以及异形形状的显示面板。 | ||
搜索关键词: | 模版 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
在所述基础模具单元包括第一连接区域;
所述连接构件包括第二连接区域以及非连接区域,其中,所述基础模具单元与连接构件通过第一连接区域与第二连接区域相连接,所述非连接区域的外形与所述基础模具单元的外形构成所述掩模版所需的目标形状。
2.根据权利要求1所述的掩模版,其特征在于,所述基础模具单元的边框至少包括第一边框以及与所述第一边框连接的第二边框;在所述第一边框上表面开设有凹槽,所述凹槽所在的区域为所述第一连接区域,所述凹槽在第一边框延长线方向上的长度小于所述第一边框的长度,宽度等于所述第一边框的宽度,深度小于所述第一边框的厚度;或所述第一连接区域为开设在所述第一边框与所述第二边框的拐角连接处上表面的凹槽,其中,所述凹槽开设在对应边框上的长度小于所述对应边框的长度,宽度等于所述对应边框的宽度,深度小于所述对应边框的厚度。
3.根据权利要求2所述的掩模版,其特征在于,所述基础模具单元与连接构件通过第一连接区域与第二连接区域相连接组成的掩模版的整体厚度与所述基础模具单元的厚度相同。4.根据权利要求1‑3中任一项所述的掩模版,其特征在于,包括:在所述第一连接区域上设置有第一定位装置;
在所述第二连接区域上设置有第二定位装置,所述第二定位装置用于与所述第一定位装置匹配定位,使得所述基础模具单元的第一连接区域与所述连接构件的第二连接区域相贴合。
5.根据权利要求4所述的掩模版,其特征在于,包括:所述第一定位装置为定位凸起部,所述定位凸起部设置在所述凹槽内的底面;
所述第二定位装置为匹配所述定位凸起部的通孔,所述通孔贯穿所述连接构件。
6.根据权利要求4所述的掩模版,其特征在于,所述第一连接区域与所述第二连接区域的贴合方式为可拆卸连接,至少包括粘接、卡接中的一种。7.根据权利要求1‑3中任一项所述的掩模版,其特征在于,所述连接构件的非连接区域的外形由第一侧边与第二侧边组成;所述第一侧边为所述非连接区域与所述第二连接区域的分界线;
所述第二侧边为具有预置弧度的侧边,其中,将所述第二侧边为内凹弧线的连接构件连接在所述基础模具单元的边框拐角处时,构成具有弧形拐角的掩模版,或者,将所述第二侧边为外凸弧线的连接构件连接在所述基础模具单元的至少一边框中时,构成具有弧形凸起的掩模版。
8.一种掩模版的制备方法,其特征在于,所述方法包括:在标准掩模版上的第一连接区域进行刻蚀,得到基础模具单元;
采用构图工艺制作具有第二连接区域的连接构件,所述第二连接区域用于与所述第一连接区域相连接;
利用所述第一连接区域与所述第二连接区域将所述连接构件与所述基础模具单元组合成新的掩模版。
9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,在标准掩模版上的第一连接区域进行刻蚀包括:在标准掩模版的至少一个边框上刻蚀出凹槽,所述凹槽所在的区域为所述第一连接区域,所述凹槽在边框延长线方向上的长度小于所述边框的长度,宽度等于所述边框的宽度,深度小于所述边框的深度。
10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,采用构图工艺制作具有第二连接区域的连接构件包括:利用曝光刻蚀工艺刻蚀具有预置外形的连接构件,所述基础模具单元与连接构件通过第一连接区域与第二连接区域相连接组成的掩模版的整体厚度与所述基础模具单元的厚度相同,所述预置外形由第二连接区域与非连接区域的外形所构成。
11.根据权利要求8‑10中任一项所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:在所述第一连接区域的预置位置形成定位凸起部,所述定位凸起部与所述基础模具单元同时形成;
在所述第二连接区域的预置位置刻蚀有与所述定位凸起部匹配的贯穿所述连接构件的通孔,所述定位凸起部和所述通孔用于将所述基础模具单元与所述连接构件对位贴合。
12.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述显示面板包括显示基板,所述方法包括:所述显示基板上形成有第一膜层;
采用如权利要求1‑7中任一项所述的掩模版对所述第一膜层进行构图工艺,形成第一图形。
13.一种显示装置,其特征在于,包括显示面板,所述显示面板由权利要求12所述的显示面板制备方法制成。该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810002704.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:掩模板及其使用方法、曝光设备
- 下一篇:掩膜板及彩色滤光片的制作方法
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备