[发明专利]用于蚀刻吸收结构的方法有效
| 申请号： | 201780075200.5 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN110035722B | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | G.A.维恩斯;W.M.哈巴德;K.A.阿罗拉;N.R.惠特利;M.C.科利尔 | 申请（专利权）人： | 宝洁公司 |
| 主分类号： | A61F13/15 | 分类号： | A61F13/15 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 葛青;宋莉 |
| 地址： | 美国俄亥俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种流体蚀刻吸收物层的方法。所述方法包括提供吸收物层；提供流体蚀刻方法，所述流体蚀刻方法包括一个或多个流体喷嘴、载带和模版；将流体从所述流体喷嘴通过所述模版的开孔喷出；以及d)使所述吸收物层裂缝。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 吸收 结构 方法 | ||
【主权项】：
1.一种蚀刻吸收物层的方法，所述方法包括：a)提供吸收物层；b)提供流体蚀刻方法，所述流体蚀刻方法包括一个或多个流体喷嘴、载带和模版，其中所述载带在所述一个或多个流体喷嘴下方承载吸收物层，其中所述模版位于所述流体喷嘴和所述吸收物层之间；c)将流体从所述流体喷嘴通过所述模版的开孔喷出；以及d)使所述吸收物层裂缝。
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