[发明专利]等离子体喷镀装置和喷镀控制方法在审
| 申请号： | 201780069695.0 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN109937613A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 小林義之;桧森慎司;古谷直一 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/42 | 分类号： | H05H1/42;C23C4/134;H05H1/40 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体喷镀装置，其具有：供给部，其利用等离子体生成气体来运送喷镀材料的粉末，并从前端部的开口喷射该喷镀材料的粉末；等离子体生成部，其使用喷射出的所述等离子体生成气体来生成与所述供给部具有共同的芯轴的等离子体；磁场产生部，其在所述等离子体的生成空间中产生磁场；以及控制部，其控制所述磁场产生部，来控制所述生成的等离子体的偏转。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 等离子体生成气体 等离子体喷镀 磁场产生部 喷镀材料 供给部 喷射 等离子体生成部 偏转 前端部 喷镀 芯轴 磁场 开口 运送 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体喷镀装置，具有：供给部，其利用等离子体生成气体来运送喷镀材料的粉末，并从前端部的开口喷射该喷镀材料的粉末；等离子体生成部，其使用喷射出的所述等离子体生成气体来生成与所述供给部具有共同的芯轴的等离子体；磁场产生部，其在所述等离子体的生成空间中产生磁场；以及控制部，其控制所述磁场产生部，来控制所生成的所述等离子体的偏转。
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