[发明专利]用于检查设备的照射源、检查设备和检查方法有效
| 申请号： | 201780056418.6 | 申请日： | 2017-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN109716110B | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | P·D·范福尔斯特;林楠;S·B·鲁博尔;S·G·J·马斯杰森;S·T·范德波斯特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于测量衬底上的目标结构的检查设备以及相关联方法。检查设备包括用于产生测量辐射的照射源；用于聚焦测量辐射至所述目标结构上的光学装置；以及补偿光学装置。补偿光学装置可以包括SLM，可操作为空间调制测量辐射的波前以便于补偿所述光学装置中非均匀制造缺陷。在备选实施例中，补偿光学装置可以位于测量辐射的光束中，或在用于在HHG源中产生高阶谐波辐射的泵浦辐射束。其中位于泵浦辐射的光束中，补偿光学装置可以用于校正指向误差，或赋予期望的分布，或者在测量辐射的光束中的变化的照射图案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 检查 设备 照射 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于测量衬底上的目标结构的检查设备，包括：照射源，用于产生测量辐射；光学装置，用于将所述测量辐射聚焦至所述目标结构上，所述光学装置包括至少一个光学元件，所述至少一个光学元件被设置为接收掠入射的所述测量辐射；以及补偿光学装置，可操作为空间调制所述测量辐射的波前，以便于补偿所述光学装置中的非均匀性制造缺陷。
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