[实用新型]一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘有效
| 申请号： | 201721776221.3 | 申请日： | 2017-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN207724096U | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 张光明 | 申请（专利权）人： | 东莞市亚马电子有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/11 | 分类号： | B24B37/11 |
| 代理公司： | 东莞市华南专利商标事务所有限公司 44215 | 代理人： | 姜华 |
| 地址： | 523187 广东省东莞市道滘*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及研磨盘技术领域，具体涉及一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，包括研磨盘本体，所述研磨盘本体包括弹性板和固定于弹性板一面的磨砂片，所述磨砂片的表面开设有网格状凹槽。本实用新型的清洁和抛光用氧化铈研磨盘通过在磨砂片的表面开设有网格状凹槽，可在槽内存储多余的磨粒，防止磨料堆积而损伤工件表面；在加工中作为向工件供给磨粒的通道；还可以作为及时排屑的通道，防止研磨表面被划伤。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨盘 抛光 磨砂片 氧化铈 本实用新型 网格状凹槽 表面开设 弹性板 磨粒 清洁 工件表面 磨料堆积 研磨表面 划伤 排屑 存储 损伤 加工 | ||
【主权项】：
1.一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，包括研磨盘本体，其特征在于：所述研磨盘本体包括弹性板和固定于弹性板一面的磨砂片，所述磨砂片的表面开设有网格状凹槽。
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