[实用新型]用于磁约束核聚变等离子体高能离子测量的三维入射窗有效

专利信息
申请号: 201721297791.4 申请日: 2017-10-10
公开(公告)号: CN207380253U 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 张轶泼;刘仪;李旭 申请(专利权)人: 核工业西南物理研究院
主分类号: G01T1/00 分类号: G01T1/00
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 高安娜
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型属于核测量技术领域,具体位一种用于磁约束核聚变等离子体高能离子测量的三维入射窗,包括石墨保护结构、设于石墨保护结构内的不锈钢框架和不锈钢盒,以及位于不锈钢盒内的闪烁体屏,所述的石墨保护结构设有准直开口,在石墨保护结构准直开口的下方设有不锈钢准直器。利用磁约束核聚变等离子体能量越大的离子的回旋半径越大,俯仰角越大的离子的螺间距越小这一原理。缝隙的效果,通过对三维入射窗尺寸和结构设计,可精确控制入射高能离子的能量范围和俯仰角范围,同时又可阻止X射线的入射。
搜索关键词: 用于 约束 聚变 等离子体 高能 离子 测量 三维 入射
【主权项】:
1.一种用于磁约束核聚变等离子体高能离子测量的三维入射窗,包括石墨保护结构、设于石墨保护结构内的不锈钢框架(3)和不锈钢盒(6),以及位于不锈钢盒(6)内的闪烁体屏(5),其特征在于:所述的石墨保护结构设有准直开口,在石墨保护结构准直开口的下方设有不锈钢准直器(8)。
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