[实用新型]一种改进式高纯化学品蒸发器有效
申请号: | 201721160058.8 | 申请日: | 2017-09-11 |
公开(公告)号: | CN207699663U | 公开(公告)日: | 2018-08-07 |
发明(设计)人: | 王宗旻 | 申请(专利权)人: | 王宗旻 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/52 |
代理公司: | 北京方向标知识产权代理事务所(普通合伙) 11636 | 代理人: | 段斌 |
地址: | 235000 安徽省淮北*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种改进式高纯化学品蒸发器,其结构包括:收集系统、旋蒸主机面板、旋蒸主机、机头、角度调节手柄、伸缩杆、主机底座、升降手柄、水浴锅、水浴锅操作面板、水浴锅开关、调节按钮、数字显示屏、水浴锅底座、支撑柱,收集系统通过机头与旋蒸主机相配合,机头与角度调节手柄一体化结构,机头底端与伸缩杆相连接,伸缩杆底端设有升降手柄,旋蒸主机与主机底座为一体化结构,水浴锅操作面板、水浴锅开关、底座与支撑柱为一体化结构;本实用新型的一种改进式高纯化学品蒸发器,装设有加热水浴锅、旋蒸主机以及化学品冷凝收集系统,能够对蒸发温度进行有效的控制,旋蒸主机对化学品旋旋转蒸发,避免了蒸发不彻底,蒸发率高。 | ||
搜索关键词: | 旋蒸 主机 机头 高纯化学品 一体化结构 改进式 水浴锅 蒸发器 角度调节手柄 本实用新型 水浴锅开关 操作面板 升降手柄 收集系统 主机底座 化学品 伸缩杆 支撑柱 蒸发 冷凝收集系统 伸缩杆底端 数字显示屏 热水浴锅 旋转蒸发 主机面板 锅底座 蒸发率 按钮 底端 水浴 装设 底座 配合 | ||
【主权项】:
1.一种改进式高纯化学品蒸发器,其结构包括:收集系统(1)、旋蒸主机面板(2)、旋蒸主机(3)、机头(4)、角度调节手柄(5)、伸缩杆(6)、主机底座(7)、升降手柄(8)、水浴锅(9)、水浴锅操作面板(10)、水浴锅开关(11)、调节按钮(12)、数字显示屏(13)、水浴锅底座(14)、支撑柱(15),所述收集系统(1)通过机头(4)与旋蒸主机(3)相配合,所述旋蒸主机(3)上方设有旋蒸主机面板(2),所述旋蒸主机(3)前方设有机头(4),所述机头(4)与角度调节手柄(5)一体化结构,所述机头(4)底端与伸缩杆(6)相连接,所述伸缩杆(6)底端设有升降手柄(8),所述旋蒸主机(3)与主机底座(7)为一体化结构,所述水浴锅(9)底端安装有支撑柱(15),所述水浴锅操作面板(10)、水浴锅开关(11)、底座(14)与支撑柱(15)为一体化结构,其特征在于:所述旋蒸主机(3)与机头(4)为活动连接,所述机头(4)与角度调节手柄(5)相焊接,所述机头(4)与伸缩杆(6)顶端固定连接,所述伸缩杆(6)底端与升降手柄(8)相连接,所述水浴锅(9)与支撑柱(15)为间隙配合,所述水浴锅(9)前方装设有水浴锅操作面板(10),所述水浴锅操作面板(10)上设水浴锅开关(11)、调节按钮(12)与数字显示屏(13),所述水浴锅操作面板(10)右侧装设有水浴锅开关(11),所述水浴锅底座(14)与支撑柱(15)相焊接;所述收集系统(1)由旋转瓶(101)、冷凝管(102)、进水口(103)、牛角管(104)、收集瓶夹(105)、收集瓶(106)、圆形支架(107)、支撑架(108)、支撑架底座(109)组成,所述旋转瓶(101)与机头(4)右侧接口过盈配合,所述冷凝管(102)与机头(4)左侧接口过盈配合,所述冷凝管(102)与进水口(103)和牛角管(104)为一体化结构,所述冷凝管(102)与收集瓶(106)为过盈配合,所述收集瓶(106)与圆形支架(107)为间隙配合,所述圆形支架(107)、支撑架(108)与支撑架底座(109)为一体化结构。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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