[实用新型]保持硅片后续工位洁净的清洗设备

摘要

本实用新型涉及太阳能硅片清洗水槽技术领域，尤其是一种保持硅片后续工位洁净的清洗设备，包括用于盛放清洗水的水槽，所述水槽内设置有用于放置硅片的载具，所述水槽的顶端设置有喷淋管，所述喷淋管的内侧分布有若干喷孔，所述喷淋管与水源连通，所述喷淋管用于对向上提升脱离水槽时的载具进行喷淋，本实用新型的保持硅片后续工位洁净的清洗设备通过在水槽上设置喷淋管，当机械手将装有硅片的载具往上提升时，喷淋管对硅片及载具使用纯水进行喷淋，使硅片及载具上的残留液体稀释并掉回水槽，有效避免硅片及载具将洁净度较低的残留液体带入下一个工位。

主权项

一种保持硅片后续工位洁净的清洗设备，其特征在于：包括用于盛放清洗水的水槽(1)，所述水槽(1)内设置有用于放置硅片(5)的载具(6)，所述水槽(1)的顶端设置有喷淋管(2)，所述喷淋管(2)的内侧分布有若干喷孔，所述喷淋管(2)与水源连通，所述喷淋管(2)用于对向上提升脱离水槽(1)时的载具(6)进行喷淋。