[实用新型]一种化铜缸有效
申请号: | 201720072000.1 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN206447942U | 公开(公告)日: | 2017-08-29 |
发明(设计)人: | 黄军辉;朱惠民;浦长芬 | 申请(专利权)人: | 广东骏亚电子科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C18/38 | 分类号: | C23C18/38 |
代理公司: | 惠州市超越知识产权代理事务所(普通合伙)44349 | 代理人: | 鲁慧波 |
地址: | 516000 广东省惠*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种化铜缸,包括矩形缸体,所述矩形缸体上方设置有进水管,所述矩形缸体底部设置有出水管,所述出水管包括与矩形缸体底部对应呈矩形布置的外管体,所述矩形缸体还包括两端分别连通外管体对角的内管体,所述内管体连通位于外管体所围合的矩形中心处的流出管道,所述外管体均匀布置有多个出水孔。本实用新型结构简单,通过改进化铜缸内的出水管结构使药水对流更为均匀,保证药水通过沉铜孔的均匀性,从而提高沉铜孔的化铜效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 化铜缸 | ||
【主权项】:
一种化铜缸,其特征在于:包括矩形缸体,所述矩形缸体上方设置有进水管,所述矩形缸体底部设置有出水管,所述出水管包括与矩形缸体底部对应呈矩形布置的外管体,所述矩形缸体还包括两端分别连通外管体对角的内管体,所述内管体连通位于外管体所围合的矩形中心处的流出管道,所述外管体均匀布置有多个出水孔。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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