[实用新型]光掩模坯料和光掩模组有效
申请号: | 201720040773.1 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN206594443U | 公开(公告)日: | 2017-10-27 |
发明(设计)人: | 桥本昌典 | 申请(专利权)人: | 株式会社SK电子 |
主分类号: | G03F1/42 | 分类号: | G03F1/42 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供能够降低半色调掩模重合误差的光掩模坯料和光掩模组。本实用新型提供一种在四边形的4个顶点具备对准图形且关联有各对准图形的坐标位置的数据信息的光掩模坯料,通过参照上述坐标位置的数据信息修正形成于所述光掩模坯料上的转印图形,能够大幅降低重合误差。另外,通过使用利用上述光掩模坯料形成转印图形的光掩模组,能够大幅降低产品制造的光刻步骤中的重合误差。 | ||
搜索关键词: | 光掩模 坯料 模组 | ||
【主权项】:
一种光掩模坯料,其特征在于:包括至少位于四边形的顶点的4个对准图形,由所述各对准图形的坐标位置构成的基准数据信息与记录于所述坯料的坐标位置或识别所述坯料的识别信息相关联。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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