[实用新型]一种新型大功率高精度450nm激光光源系统有效
申请号: | 201720009404.6 | 申请日: | 2017-01-05 |
公开(公告)号: | CN206370612U | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | 韦国兴;何伟峰;曲鲁杰;陈良伢 | 申请(专利权)人: | 中山优盛光电科技有限公司 |
主分类号: | H01S5/024 | 分类号: | H01S5/024 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 孙海英 |
地址: | 528437 广东省中山市火炬*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种新型大功率高精度450nm激光光源系统,包括风冷模块、半导体TEC制冷模块、激光模块和水冷模块,激光模块采用450nm激光光源,激光模块上安装有半导体TEC制冷模块和水冷模块,水冷模块作用于激光模块,且水冷模块宽幅调节激光模块的温度,半导体TEC制冷模块作用于激光模块,且半导体TEC制冷模块精确调节激光模块的温度,半导体TEC制冷模块上安装有风冷模块,风冷模块作用于半导体TEC制冷模块,且风冷模块宽幅调节半导体TEC制冷模块的温度,激光模块为二极管激光器,风冷模块设有多组,且至少有两组。本实用新型可以提供足够的制冷量,功率可以更大,通过联合制冷,温度控制精度可以做到0.1度以下,温度控制更稳定,激光使用寿命更长。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 大功率 高精度 450 nm 激光 光源 系统 | ||
【主权项】:
一种新型大功率高精度450nm激光光源系统,包括风冷模块(1)、半导体TEC制冷模块(2)、激光模块(3)和水冷模块(4),其特征在于,所述激光模块(3)采用450nm激光光源,所述激光模块(3)上安装有半导体TEC制冷模块(2)和水冷模块(4),所述水冷模块(4)作用于激光模块(3),且水冷模块(4)宽幅调节激光模块(3)的温度,所述半导体TEC制冷模块(2)作用于激光模块(3),且半导体TEC制冷模块(2)精确调节激光模块(3)的温度,所述半导体TEC制冷模块(2)上安装有风冷模块(1),所述风冷模块(1)作用于半导体TEC制冷模块(2),且风冷模块(1)宽幅调节半导体TEC制冷模块(2)的温度。
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