[发明专利]一种GaN基垂直结构LED器件转移衬底的制备方法在审

专利信息
申请号: 201711477659.6 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN108123020A 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 孙永健;张戌有;胡勇;王光普;郭坚 申请(专利权)人: 保定金阳光能源装备科技有限公司
主分类号: H01L33/20 分类号: H01L33/20;H01L33/32;C25D5/10;C25D5/12;C25D5/14;C25D7/12
代理公司: 保定市燕赵恒通知识产权代理事务所 13121 代理人: 王葶葶
地址: 071051 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明公开了一种GaN基垂直结构LED器件转移衬底的制备方法,样品为生长在蓝宝石衬底上的GaN,将样品放入第一金属电镀池内进行电镀,第一金属电镀池内的金属为铜、钴、钯、金、银中的一种;再放入第二金属电镀池内进行电镀,第二金属电镀池内的金属为镍或钨;再放入第三金属电镀池内进行电镀,第三金属电镀池内的金属为铂、铝、铬和钛中的一种;再放入第二金属电镀池内进行电镀;再放入第一金属电镀池内进行电镀;再放入第二金属电镀池内进行电镀;最后放入第三金属电镀池内进行电镀。本发明改善了电镀金属的致密度,多种金属合金更有助于调节垂直结构LED器件与衬底支撑度;改善了电镀金属与GaN薄膜连接强度,改善了垂直结构LED器件的老化特性。
搜索关键词: 金属电镀 电镀 放入 垂直结构LED 衬底 电镀金属 器件转移 金属 制备 衬底支撑 金属合金 老化特性 蓝宝石 生长
【主权项】:
一种GaN基垂直结构LED器件转移衬底的制备方法,其特征在于:样品为生长在蓝宝石衬底上的GaN,其包括以下步骤,(1)首先将样品放入第一金属电镀池内进行电镀;第一金属电镀池内的金属为铜Cu、钴Co、钯Pd、金Au、银Ag中的一种,电镀用电流为1A~10A,电镀金属层厚度为10~15微米;(2)再将电镀第一金属层后的样品放入第二金属电镀池内进行电镀;第二金属电镀池内的金属为镍Ni或钨W,电镀用电流为2A~20A,电镀金属层厚度为15~25微米;(3)将电镀第二金属层后的样品放入第三金属电镀池内进行电镀;第三金属电镀池内的金属为铂Pt、铝Al、铬Cr和钛Ti中的一种,,电镀用电流为3A~15A,电镀金属层厚度为20~30微米;(4)将电镀第三金属层后的样品放入第二金属电镀池内进行电镀;第二金属电镀池内的金属为镍Ni或钨W,电镀用电流为2A~20A,电镀金属层厚度为15~25微米;(5)将电镀第四金属层后的样品放入第一金属电镀池内进行电镀;第一金属电镀池内的金属为铜Cu、钴Co、钯Pd、金Au、银Ag中的一种,电镀用电流为1A~10A,电镀金属层厚度为10~15微米;(6)将电镀第五金属层后的样品放入第二金属电镀池内进行电镀;第二金属电镀池内的金属为镍Ni或钨W,电镀用电流为2A~20A,电镀金属层厚度为15~25微米;(7)将电镀第六金属层后的样品放入第三金属电镀池内进行电镀;第三金属电镀池内的金属为铂Pt、铝Al、铬Cr和钛Ti中的一种,,电镀用电流为3A~15A,电镀金属层厚度为20~30微米。
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