[发明专利]显示装置和制造该显示装置的方法在审

专利信息
申请号: 201711456660.0 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN108269809A 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 洪泌荀;郑贤映;朴喆远;朴贵铉;朴廷敏 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/84;G02F1/1368
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 尹淑梅;刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种显示装置和制造该显示装置的方法。所述显示装置包括位于第一基体基底上的薄膜晶体管,薄膜晶体管包括:栅电极,设置在第一基体基底上;有源图案,设置在第一基体基底上,并包括包含非晶硅的半导体层和位于半导体层上的欧姆接触层;漏电极,设置在欧姆接触层上并具有第一厚度;以及源电极,设置在欧姆接触层上并具有大于第一厚度的第二厚度。
搜索关键词: 显示装置 欧姆接触层 基底 薄膜晶体管 半导体层 非晶硅 漏电极 源电极 源图案 栅电极 制造
【主权项】:
1.一种显示装置,所述显示装置包括:薄膜晶体管,位于第一基体基底上,所述薄膜晶体管包括:栅电极,设置在所述第一基体基底上;有源图案,设置在所述第一基体基底上,所述有源图案包括包含非晶硅的半导体层和位于所述半导体层上的欧姆接触层;漏电极,设置在所述欧姆接触层上,所述漏电极具有第一厚度;以及源电极,设置在所述欧姆接触层上,所述源电极具有比所述漏电极的所述第一厚度大的第二厚度。
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