[发明专利]一种涉及切削/研磨/抛光工艺废水处理的装置及工艺在审
| 申请号： | 201711447508.6 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108046476A | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | 邵俊轩;席红安 | 申请（专利权）人： | 佛山市中国科学院上海硅酸盐研究所陶瓷研发中心 |
| 主分类号： | C02F9/04 | 分类号： | C02F9/04 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市禅城区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种可应用于切削/研磨/抛光工艺过程的废水处理装置及工艺。装置按一般工艺顺序主要分为加药混合、沉淀分离和过滤分离三部分。沉淀分离与过滤分离的装置均分别设有沉淀室与排污口。其中，加药混合采用管道混合法；沉淀分离采用竖流沉淀池设计；过滤分离采用微滤/超滤/纳滤/反渗透的一种或多种方式组合进行固液分离。根据污水的特征，可把这三个装置按需组合，形成一种或多种工艺组合的废水处理装置。这套装置具有适用性广、费用低廉、安装容易、运行能耗低、维护简单的特点。尤其适合于含有不溶性污染物的废水处理。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 涉及 切削 研磨 抛光 工艺 废水处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种设计切削/研磨/抛光工艺废水处理的装置及工艺，其特征在于：所述处理装置，由加药混合、沉淀分离、过滤分离三部分组成，加药混合采用无电动搅拌的管道混合结构；沉淀分离采用集泥斗分区微扰动分离结构；过滤分离采用低能耗的过滤分离膜组件。
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