[发明专利]水平法砷化镓单晶拉制过程中的放肩方法有效

专利信息
申请号: 201711440730.3 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN107955971B 公开(公告)日: 2020-07-21
发明(设计)人: 马英俊;郑安生;马远飞;林泉;易见伟;龙彪;张洁;邢爱君 申请(专利权)人: 有研光电新材料有限责任公司
主分类号: C30B29/42 分类号: C30B29/42;C30B11/00
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 佟林松
地址: 065001 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明涉及水平法砷化镓单晶拉制过程中的放肩方法,包括:将封装好砷化镓多晶料的石英管装入水平单晶炉加热体,接种籽晶;当晶体由高温区生长至距界面区第一固定距离时,以0.5‑3.0℃/h的降温速率降低界面区温度,并以特定速率移动水平单晶炉加热体;当晶体的生长界面距界面区第二固定距离时,停止移动水平单晶炉加热体;继续以1‑8℃/h的降温速率对界面区继续降温,将晶体生长界面回调至距界面区的第一固定距离处;循环重复上述步骤,直至晶体生长长度达到标准长度。本发明的放肩方法可有效降低放肩时晶体生长出现孪晶、夹晶和花晶情况几率,提高单晶生长放肩成功率,从而大幅提高单晶生长成品率和生产效率。
搜索关键词: 水平 法砷化镓单晶 拉制 过程 中的 方法
【主权项】:
水平法砷化镓单晶拉制过程中的放肩方法,其特征在于,所述放肩方法在水平单晶炉加热体中实现,所述水平单晶炉加热体包括沿水平方向设置的十二个加热区段,所述十二个加热区段依次编号为Ι~XII,其中Ι~VI区为各区温度依次升高的高温区,VII区为界面区,VIII~XII区为温度各区温度依次降低的低温区,所述放肩方法包括以下步骤:S1:将封装好砷化镓多晶料的石英管装入水平单晶炉加热体,降温进行接籽晶;S2:当晶体由高温区生长至挨近VII区,且生长界面距VII区第一固定距离时,以第一降温速率降低VII区温度,并以特定速率移动水平单晶炉加热体;S3:直至晶体的生长界面进一步挨近VII区,并距VII区第二固定距离时,停止移动水平单晶炉加热体;S4:继续以第二降温速率对VII区继续降温,将晶体生长界面回调至挨近VII区的第一固定距离;S5:循环重复步骤S2~S4,直至晶体生长长度达到标准长度;其中,第一降温速率为0.5‑3.0℃/h,所述第二降温速率为1‑8℃/h。
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