[发明专利]等离子体射流沉积薄膜装置及浅化表面陷阱能级的方法

摘要

本发明公开了一种等离子体射流沉积薄膜装置及浅化表面陷阱能级的方法，该装置包括：等离子体射流阵列，其置于钢化玻璃腔内，且等离子体射流阵列包括石英管、中空金属毛细管、铜箔和三维移动平台；中空金属毛细管穿插于石英管中，且中空金属毛细管外壁与石英管内壁不接触；铜箔，其设于石英管底部，用于接地；三维移动平台设于石英管的正下方，调控样品的移动；鼓泡瓶，其一端与第一气瓶连接，鼓泡瓶另一端与中空金属毛细管上管口连接；第二气瓶，其与中空金属毛细管上管口连接；电源，其与中空金属毛细管连接。

主权项

一种等离子体射流沉积薄膜装置，其特征在于，包括：等离子体射流阵列，其置于钢化玻璃腔(16)内，且所述等离子体射流阵列包括石英管(6)、中空金属毛细管(7)、铜箔(8)和三维移动平台(11)；所述中空金属毛细管(7)穿插于所述石英管(6)中，且所述中空金属毛细管(7)外壁与所述石英管(6)内壁不接触，所述中空金属毛细管(7)下管口位于所述石英管(6)下管口的上方；所述铜箔(8)，其贴于所述石英管(6)外壁下方，且所述铜箔(8)位于所述中空金属毛细管(7)下管口的下方；所述三维移动平台(11)设于所述石英管(6)的正下方；鼓泡瓶(5)，其一端与所述第一气瓶(1)连接，所述鼓泡瓶(5)另一端与所述中空金属毛细管(7)上管口连接；第二气瓶(2)，其与所述中空金属毛细管(7)上管口连接；电源(17)，其与所述中空金属毛细管(7)连接。