[发明专利]一种氢化物气相外延用的喷头结构在审
| 申请号： | 201711372847.2 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN108048901A | 公开（公告）日： | 2018-05-18 |
| 发明（设计）人： | 黄业;刘鹏;李成明;左然 | 申请（专利权）人： | 东莞市中镓半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/14 | 分类号： | C30B25/14;C30B29/40 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 罗晓林;杨桂洋 |
| 地址： | 523000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种氢化物气相外延用的喷头结构，包括围合封闭的圈壁和喷管，所述圈壁的上端和下端均为开口结构，圈壁内设置至少一块隔板，该隔板将圈壁的内部空间分隔成至少两个腔体，喷管设在圈壁内且从上往下穿过隔板延伸至喷头反应腔，喷头的底面延伸至反应腔，隔板上设有若干通气孔，隔板上设置通气孔后形成为喷头。本发明控制GaCl在反应腔衬底上方形成均匀的浓度场，从而生长出均匀性好，质量高的氮化镓晶片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氢化物 外延 喷头 结构 | ||
【主权项】：
1.一种氢化物气相外延用的喷头结构，包括围合封闭的圈壁和喷管，其特征在于，所述圈壁的上端和下端均为开口结构，圈壁内设置至少一块隔板，该隔板将圈壁的内部空间分隔成至少两个腔体，喷管设在圈壁内且从上往下穿过隔板延伸至喷头反应腔，喷头的底面延伸至反应腔，隔板上设有若干通气孔，隔板上设置通气孔后形成为喷头。
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