[发明专利]一种铸造多晶硅免喷坩埚氮化硅涂层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711354115.0 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108069731A 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 杜宁;季勇升;杨德仁;张亚光;杜英;陆介平 申请(专利权)人: 江苏润弛太阳能材料科技有限公司
主分类号: C04B41/87 分类号: C04B41/87;C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人: 徐冬涛;李晓峰
地址: 212218 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种铸造多晶硅免喷坩埚氮化硅涂层及其制备方法,该氮化硅涂层包括两种粒径的氮化硅和粘结剂。采用两种粒径的氮化硅混合,颗粒粗细搭配,细颗粒可以填充到粗颗粒之间的孔隙,增强氮化硅涂层的致密度和强度。此外,本发明采用了高粘度,低氧含量的粘结剂,使得氮化硅涂层具有低氧含量和高的强度。总之,本发明通过在氮化硅粒径搭配和粘结剂的优化选择,增强了涂层的强度和致密性,减少了硅锭含氧的缺陷和杂质,有助于提高硅锭的成品率,提高光伏组件的稳定性和光电转换效率。
搜索关键词: 氮化硅涂层 氮化硅 粘结剂 多晶硅 低氧 硅锭 种粒 坩埚 制备 搭配 铸造 光电转换效率 光伏组件 颗粒粗细 优化选择 成品率 粗颗粒 高粘度 细颗粒 致密性 含氧 粒径 填充
【主权项】:
1.一种铸造多晶硅免喷坩埚氮化硅涂层,其特征在于,该氮化硅涂层包括两种粒径的氮化硅和粘结剂。
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