[发明专利]投影设备校正方法、装置及投影设备有效
申请号: | 201711315215.2 | 申请日: | 2017-12-12 |
公开(公告)号: | CN108111828B | 公开(公告)日: | 2019-12-17 |
发明(设计)人: | 钟波;肖适;刘志明;宁仲 | 申请(专利权)人: | 成都极米科技股份有限公司 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31 |
代理公司: | 11371 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 唐维虎 |
地址: | 610000 四川省成都市高新区世*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明涉及投影技术领域,具体涉及一种投影设备校正方法、装置及投影设备。方法包括:获取投影设备的摄像头对投射至投影平面后的预设图像进行拍摄得到的拍摄图像,获取拍摄图像中各特征点的平面坐标,并根据各特征点的坐标和图像特征模型得到各特征点对应的投射距离,根据各特征点的平面坐标和各特征点对应的投射距离得到各特征点的三维坐标,根据各特征点的三维坐标得到立体投影面,根据立体投影面与投影平面之间的夹角得到投影设备的水平转角,根据水平转角对投影设备进行校正。通过上述方法对投影设备进行校正后进行投射的图像更加接近真实图像,且投射效果更好。 | ||
搜索关键词: | 投影设备 特征点 校正 立体投影 拍摄图像 平面坐标 三维坐标 水平转角 投射距离 投影平面 投射 投影技术领域 图像 摄像头 投射效果 图像特征 真实图像 预设 拍摄 | ||
【主权项】:
1.一种投影设备校正方法,应用于投影设备,其特征在于,所述投影设备包括:光机和摄像头,所述投影设备预存有图像特征模型,所述图像特征模型为所述投影设备在目标状态下,所述光机在不同投射距离下将预设图像正向投射至投影平面时得到的所述预设图像中的多个特征点分别对应的平面坐标,所述投影设备校正方法包括:/n获取投影设备的摄像头对投射至投影平面后的所述预设图像进行拍摄得到的拍摄图像;/n获取所述拍摄图像中各所述特征点的平面坐标,并根据各所述特征点的坐标和所述图像特征模型得到各所述特征点对应的投射距离;/n根据各所述特征点的平面坐标和各所述特征点对应的投射距离得到各所述特征点的三维坐标;/n根据各所述特征点的三维坐标得到立体投影面,根据所述立体投影面与所述投影平面之间的夹角得到所述投影设备的水平转角;/n根据所述水平转角对所述投影设备进行校正;/n所述投影设备中还预存有光机误差模型和摄像头误差模型,获取所述拍摄图像中各所述特征点的平面坐标,并根据各所述特征点的平面坐标和所述图像特征模型得到各所述特征点对应的投射距离的步骤包括:/n获取所述拍摄图像中各所述特征点的平面坐标,根据各所述特征点的坐标、所述光机误差模型和所述摄像头误差模型得到各所述特征点在不同光机误差下和不同摄像头误差下的误差坐标;/n针对每个特征点,将该特征点对应的各误差坐标与所述图像特征模型中该特征点对应的各平面坐标进行匹配,以得到匹配度最高的一组坐标数据,其中,该组坐标数据包括所述特征点对应的一个误差坐标及与该误差坐标匹配的平面坐标;/n根据各所述特征点对应的坐标数据中的平面坐标和所述图像特征模型得到各所述特征点对应的投射距离。/n
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