[发明专利]用于临近催化化学气相沉积的装置和方法有效

专利信息
申请号: 201711296987.6 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN108048816B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 郭国平;杨晖;李海欧;曹刚;郭光灿 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/30;C23C16/448
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴胜周
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本申请提供用于临近催化化学气相沉积的装置及方法,所述装置包括:在竖直方向上设置的上加热器和下加热器;用于控制它们升降的电机;在下加热器表面上的用于安放基底的样品台;在样品台和上加热器之间的水平导轨;和用于安放催化剂的载板,所述载板和所述样品台之间为用于临近催化化学气相沉积的反应区;其中上下加热器用于对反应区提供二维材料生长所需的温度。通过利用本发明的装置和方法,可以使得在催化剂表面催化得到的二维材料的活性物质扩散到基底,使得在基底上沉积所需的薄膜;同时可以在不具有催化功能的基底上生长强烈依赖催化剂的二维材料的薄膜或异质结。
搜索关键词: 用于 临近 催化 化学 沉积 装置 方法
【主权项】:
1.一种用于临近催化化学气相沉积的装置,所述装置包括:设置在竖直方向上的彼此相对的上加热器和下加热器;电连接至所述上加热器和下加热器的用于控制它们在所述竖直方向上升降的电机;设置在所述下加热器表面上的样品台,其用于安放在所述临近催化化学气相沉积期间生长二维材料的基底;设置在所述样品台和所述上加热器之间并且与它们间隔开的水平导轨;和设置在所述水平导轨上并且具有一个或多个用于安放催化剂的穿孔的载板,所述载板和所述样品台之间为用于临近催化化学气相沉积的反应区;其中所述上加热器和所述下加热器用于对所述反应区提供适合所述二维材料生长的温度。
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