[发明专利]一种多晶硅片清洗系统及其清洗方法

摘要

本发明揭示了一种多晶硅片清洗系统及其清洗方法，包括上料工位、清洗工位及下料工位，且三个工位均借助输送装置实现各个工位的连接，多晶硅片通过输送装置可从下料工位进入制绒槽，清洗工位依顺序设置有喷淋装置、擦拭装置及干燥装置，且喷淋装置、擦拭装置及干燥装置之间通过输送装置相连接；多晶硅片清洗系统还包括控制装置；输送装置、喷淋装置、擦拭装置及干燥装置均与控制装置相连接并受控制装置的控制。本发明清洗工位上设置有喷淋装置、擦拭装置及干燥装置，可以加大多晶硅表面的水分蒸发，减少对制绒槽内的化学试剂及制绒槽的污染，从而延长制绒槽内化学试剂的使用时间，另外可以缩短多晶硅电池片工艺的流程时间，从而提高生产效率。

主权项

一种多晶硅片清洗系统，其位于箱体上、且固定设置在制绒槽的前序工位，其特征在于：所述多晶硅片清洗系统包括上料工位、清洗工位及下料工位，上料工位、清洗工位及下料工位均借助输送装置实现各个工位的连接，且多晶硅片通过所述输送装置可从所述下料工位进入所述制绒槽，所述清洗工位依顺序设置有喷淋装置、擦拭装置及干燥装置，且喷淋装置、擦拭装置及干燥装置之间通过输送装置相连接；所述多晶硅片清洗系统还包括设置与箱体下方的控制装置；所述输送装置、所述喷淋装置、所述擦拭装置及所述干燥装置均设置在箱体上方且均与所述控制装置相连接并受控制装置的控制。