[发明专利]目标与粗糙面耦合散射源的分布描述方法有效
| 申请号： | 201711270609.0 | 申请日： | 2017-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN108051792B | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 高鹏程;梁子长;顾丹丹;冯明 | 申请（专利权）人： | 上海无线电设备研究所 |
| 主分类号： | G01S7/41 | 分类号： | G01S7/41 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 朱成之 |
| 地址： | 200090 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种目标与粗糙面耦合散射源的分布描述方法，包含以下步骤：S1、对目标与粗糙面的复合散射几何关系进行分析；S2、对目标与粗糙面的耦合散射源分布形状进行描述；S3、对目标与粗糙面的耦合散射源分布方向进行描述；S4、对目标与粗糙面的近场耦合散射源水平方向位置的偏移进行计算。本发明提供了目标与粗糙面复合散射中耦合散射源的线状展宽及近场位置偏移描述的方法；由于线状展宽分布的线状倾角与入射角近似相同，能够为目标与地海环境复合散射雷达回波信号的快速仿真提供基础与支撑。 | ||
| 搜索关键词： | 目标 粗糙 耦合 散射 分布 描述 方法 | ||
【主权项】：
1.一种目标与粗糙面耦合散射源的分布描述方法，其特征在于，包含以下步骤：S1、对目标与粗糙面的复合散射几何关系进行分析；S2、对目标与粗糙面的耦合散射源分布形状进行描述；S3、对目标与粗糙面的耦合散射源分布方向进行描述；S4、对目标与粗糙面的近场耦合散射源水平方向位置的偏移进行计算。
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