[发明专利]一种掩膜版表面缺陷检测方法有效
| 申请号： | 201711260449.1 | 申请日： | 2017-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN108037140B | 公开（公告）日： | 2020-04-17 |
| 发明（设计）人： | 刘建明;刘庄;张彦鹏 | 申请（专利权）人： | 江苏维普光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/95 | 分类号： | G01N21/95 |
| 代理公司： | 常州兴瑞专利代理事务所(普通合伙) 32308 | 代理人： | 肖兴坤 |
| 地址： | 213000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版表面缺陷检测方法，所述方法用于检测具有铬层和玻璃的掩膜版的表面缺陷，所述方法的步骤中含有：将带有图形的掩膜版放置于一检测装置中，并打开检测装置的相机；打开反射光源，调节反射光源的光源强度，使铬层的反射亮区的灰度值达到预期设定值V1；关闭反射光源，打开透射光源，调节透射光源的光源强度，使玻璃透过的透射亮区的灰度值达到预期设定值V1；同时打开反射光源和透射光源，按照检测区域对掩膜版进行图像数据采集，然后设定图像的缺陷像素阈值T：当实际的像素灰度值V满足|V‑V1|>T时，则认定该像素是缺陷。本发明能够同时检测出铬层和玻璃上的颗粒划痕等缺陷，从而提高掩膜版表面缺陷检测效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 表面 缺陷 检测 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版表面缺陷检测方法，所述方法用于检测具有铬层和玻璃的掩膜版的表面缺陷，其特征在于，所述方法的步骤中含有：步骤S01：将带有图形的掩膜版放置于一检测装置中，并打开检测装置的相机；其中，所述检测装置具有反射光源和透射光源；步骤S02：打开反射光源，调节反射光源的光源强度，使铬层的反射亮区的灰度值达到预期设定值V1；步骤S03：关闭反射光源，打开透射光源，调节透射光源的光源强度，使玻璃透过的透射亮区的灰度值达到预期设定值V1；步骤S04：同时打开经过步骤S02调节后的光源强度的反射光源和经过步骤S03调节后的光源强度的透射光源，按照检测区域对掩膜版进行图像数据采集，然后设定图像的缺陷像素阈值T：当实际的像素的像素灰度值V满足|V-V1|>T时，则认定该像素是缺陷。
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