[发明专利]一种掩膜版表面缺陷检测方法

权利要求书

1.一种掩膜版表面缺陷检测方法，所述方法用于检测具有铬层和玻璃的掩膜版的表面缺陷，其特征在于，所述方法的步骤中含有：

步骤S01：将带有图形的掩膜版放置于一检测装置中，并打开检测装置的相机；其中，所述检测装置具有反射光源和透射光源；

步骤S02：打开反射光源，调节反射光源的光源强度，使铬层的反射亮区的灰度值达到预期设定值V1；

步骤S03：关闭反射光源，打开透射光源，调节透射光源的光源强度，使玻璃透过的透射亮区的灰度值达到预期设定值V1；

步骤S04：同时打开经过步骤S02调节后的光源强度的反射光源和经过步骤S03调节后的光源强度的透射光源，按照检测区域对掩膜版进行图像数据采集，然后设定图像的缺陷像素阈值T：当实际的像素的像素灰度值V满足|V-V1|>T时，则认定该像素是缺陷。

2.根据权利要求1所述的一种掩膜版表面缺陷检测方法，其特征在于：所述预期设定值V1＝200。

3.根据权利要求1所述的一种掩膜版表面缺陷检测方法，其特征在于：检测装置还包括检测夹具和物镜，在步骤S01中，将带有图形的掩膜版放置于检测夹具中，并移入到物镜焦深范围内，保证图像清晰。

4.根据权利要求1所述的一种掩膜版表面缺陷检测方法，其特征在于：在步骤S04中，在图像数据采集和设定缺陷像素阈值T之间还包括：图像数据进行滤波处理，消除掉图像边缘和噪声干扰。

5.根据权利要求1所述的一种掩膜版表面缺陷检测方法，其特征在于：在步骤S04中，通过设定缺陷像素阈值T的大小来调整检测缺陷的灵敏度。

6.根据权利要求5所述的一种掩膜版表面缺陷检测方法，其特征在于：通过减小缺陷像素阈值T，提高检测缺陷的灵敏度。