[发明专利]异养-自养联合降解高浓度高氯酸盐的系统及调控方法有效
申请号: | 201711258769.3 | 申请日: | 2017-12-04 |
公开(公告)号: | CN107892397B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 郭建博;陶华强;李海波;宋圆圆;逯彩彩;韩懿 | 申请(专利权)人: | 天津城建大学 |
主分类号: | C02F3/34 | 分类号: | C02F3/34;C02F101/12 |
代理公司: | 石家庄众志华清知识产权事务所(特殊普通合伙) 13123 | 代理人: | 郝晓红 |
地址: | 300384*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: |
本发明公开了一种异养‑自养联合降解高浓度高氯酸盐的系统,包括借助布水板分隔为上下相互连通的三室反应器;所述三室反应器自下而上顺流对应设置为SO |
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搜索关键词: | 异养 自养 联合 降解 浓度 氯酸盐 系统 调控 方法 | ||
【主权项】:
一种异养‑自养联合降解高浓度高氯酸盐的系统,包括借助布水板分隔为上下相互连通的三室反应器,其特征在于:所述三室反应器自下而上顺流对应设置为SO42‑还原室、异养ClO4‑还原室和硫自养ClO4‑还原室;所述SO42‑还原室设有底部进水口,所述底部进水口汇流从硫自养ClO4‑还原室回流的废水以及已知COD浓度的有机废水;所述异养ClO4‑还原室布水板的下方设有中部进水口,所述中部进水口通入高浓度高氯酸盐废水;所述硫自养ClO4‑还原室的上部设有回流口和出水口。
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