[发明专利]去除掩模版上颗粒的装置和方法在审
| 申请号： | 201711234834.9 | 申请日： | 2017-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN107942616A | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 何洪波;戴韫青;王剑;赵彬 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种去除掩模版上颗粒的装置，包括一透明的玻璃箱体，位于该玻璃箱体内的一自动开盒器，该自动开盒器的上端具有与其成一体的掩模版装载架，且掩模版装载架固定连接在玻璃箱体的上端，位于该玻璃箱体一侧且与其密封连接的手套，位于玻璃箱体一侧端的进气口，位于与进气口相对的玻璃箱体另一侧端的出气口。本发明还公开了一种采用所述装置去除掩模版上颗粒的方法。本发明能够有效提高去除掩模版上颗粒缺陷的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 模版 颗粒 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种去除掩模版上颗粒的装置，其特征在于，包括：一透明的玻璃箱体，位于该玻璃箱体内的一自动开盒器，该自动开盒器的上端具有与其成一体的掩模版装载架，且掩模版装载架固定连接在玻璃箱体的上端，位于该玻璃箱体一侧且与其密封连接的手套，位于玻璃箱体一侧端的进气口，位于与进气口相对的玻璃箱体另一侧端的出气口。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力微电子有限公司，未经上海华力微电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711234834.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：冲锋衣（7）
- 下一篇：控制压印材料扩散的方法
- 同类专利
- 专利分类
G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
