[发明专利]基于K均值聚类的光场前景分割方法及装置有效

专利信息
申请号: 201711230611.5 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN107862698B 公开(公告)日: 2019-01-08
发明(设计)人: 刘杰;周建设;陈宪宇;代锋 申请(专利权)人: 首都师范大学;中国科学院计算技术研究所
主分类号: G06T7/11 分类号: G06T7/11;G06T7/136;G06T7/168;G06T7/194;G06K9/62
代理公司: 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 代理人: 齐胜杰
地址: 100048 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于K均值聚类的光场前景分割方法及装置,方法包括:针对待处理的光场图像,提取重聚焦图像、极线平面图像和全清晰图像;采用结构张量方法对极线平面图像进行处理,获取极线平面深度信息;采用离散余弦响应方法对重聚焦图像进行处理,获取重聚焦信息;采用超像素分割技术讲全清晰图像分割的多个区域,针对每一个区域,获取区域颜色特征、区域几何特征、区域对应点特征和区域重聚焦特征;并采用K均值聚类计算区域之间的相似度;基于相似度,采用图割算法标记前景和背景,获取光场图像的前景分割结果。上述方法处理后的前景分割结果比现有技术中的前景分割结果更准确。
搜索关键词: 基于 均值 前景 分割 方法 装置
【主权项】:
1.一种基于K均值聚类的光场前景分割方法,其特征在于,包括:步骤A:针对待处理的光场图像,从所述光场图像中提取重聚焦图像、极线平面图像和全清晰图像;步骤B:采用结构张量方法对所述极线平面图像进行处理,获取所述光场图像中不同透镜视角的极线平面深度信息;步骤C:采用离散余弦响应方法对所述重聚焦图像进行处理,获取所述光场图像的重聚焦信息;步骤D:采用超像素分割技术对所述全清晰图像进行处理,获取全清晰图像分割后的多个区域,以及步骤E:针对每一个区域,基于该区域的极线平面深度信息、所述重聚焦信息、颜色信息和几何信息对该区域进行特征提取,获得该区域的颜色特征、几何特征、对应点特征和重聚焦特征;步骤F:对于所有区域,基于每一个区域的颜色特征、几何特征、对应点特征和重聚焦特征,采用K均值聚类计算相邻区域之间的相似度;步骤G:基于相邻区域之间的相似度,采用图割算法标记前景和背景,获取所述光场图像的前景分割结果。
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