[发明专利]在基板上形成膜层的方法和在基板上形成膜层的设备

摘要

本发明公开了一种在基板上形成膜层的方法及设备。方法包括：在检测区域设置检测板，检测板包括至少一个检测单元，每个检测单元都包括间隔设置的第一检测电极和第二检测电极；形成膜层，包括目标膜层和检测膜层，检测膜层填充满第一检测电极和第二检测电极之间的间隔；在形成膜层的过程中，检测所述检测膜层的厚度，根据厚度以及成膜时间，计算已经形成的膜层的成膜速率，根据该成膜速率，调节当前的成膜速率。能够准确检测基板上所形成检测膜层的厚度，并根据检测膜层的厚度以及成膜速率指导目标膜层的生产工艺，有效提高生产速率，提高膜层的工艺良率。

主权项

1.一种在基板上形成膜层的方法，其特征在于，所述基板包括目标区域和位于所述目标区域外的检测区域，所述方法包括：/n在所述检测区域设置检测板，所述检测板包括至少一个检测单元，每个所述检测单元都包括间隔设置的第一检测电极和第二检测电极；/n形成膜层，所述膜层包括位于所述目标区域的目标膜层和位于所述检测板的检测膜层，其中，所述检测膜层填充满同一个检测单元中的所述第一检测电极和所述第二检测电极之间的间隔；/n在形成膜层的过程中，检测所述检测膜层的厚度；/n根据所述检测膜层的厚度以及成膜时间，计算已经形成的膜层的成膜速率；/n根据已经形成的膜层的成膜速率，调节当前的成膜速率。/n