[发明专利]一种集成温度感应器的SiCMOSFET器件在审
申请号: | 201711187474.1 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN107994009A | 公开(公告)日: | 2018-05-04 |
发明(设计)人: | 倪炜江;李百泉 | 申请(专利权)人: | 北京世纪金光半导体有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544 |
代理公司: | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司11003 | 代理人: | 张宇锋 |
地址: | 100176 北京市大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种集成温度感应器的SiC MOSFET器件,所述SiC MOSFET器件的有源区选择一个区域a作为栅电极的压块区,选择另外一个区域b作为嵌入的横向肖特基二极管区;源电极的压块在所述有源区除所述区域a、区域b以外区域的原胞上面,通过层间介质与栅极隔离;源电极、栅电极与嵌入的用于检测SiC MOSFET器件温度的所述横向肖特基二极管区都互相隔离;其中嵌入的横向肖特基二极管作为芯片的温度传感器,通过外接电路的连接,实时检测芯片结温。本申请采用在表面嵌入横向肖特基二极管的方法,根据肖特基电流随温度的变化规律,得到实时温度监控值。SiC肖特基二极管的耐温可以达到300℃以上,因此满足高温SiC器件的应用。同时,本发明工艺兼容SiC MOSFET工艺,工艺简单。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成 温度 感应器 sicmosfet 器件 | ||
【主权项】:
一种集成温度感应器的SiC MOSFET器件,其特征在于,所述SiC MOSFET器件的有源区选择一个区域a作为栅电极的压块区,选择另外一个区域b作为嵌入的横向肖特基二极管区;源电极的压块在所述有源区除所述区域a、区域b以外区域的原胞上面,通过层间介质与栅极隔离;源电极、栅电极与嵌入的用于检测SiC MOSFET器件温度的所述横向肖特基二极管区都互相隔离;其中嵌入的横向肖特基二极管作为芯片的温度传感器,通过外接电路的连接,实时检测芯片结温。
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