[发明专利]一种用于大面积光栅制造的涂布装置及方法有效
申请号: | 201711096951.3 | 申请日: | 2017-11-09 |
公开(公告)号: | CN107899891B | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
发明(设计)人: | 巴音贺希格;李烁;宋莹;李文昊;刘兆武;王玮;吕强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | B05C11/10 | 分类号: | B05C11/10;B05C13/02;B05C5/00 |
代理公司: | 44316 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 赵勍毅 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于大面积光栅制造的涂布装置及一种涂布方法。本发明公开的用于大面积光栅制造的涂布装置包括:基片运动模块、涂布模头模块、升降模块、液体循环模块和基片调整模块。该涂布装置具有涂布膜层厚度范围广,涂布液体利用率高、膜厚均匀性好、对基片形状尺寸敏感度低等显著优点,可满足米级尺寸光栅高均匀性、亚微米厚度薄膜涂布。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 大面积 光栅 制造 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于大面积光栅制造的涂布装置,其特征在于,包括:/n基片运动模块,所述基片运动模块包括基座和滑台,所述滑台设置在所述基座上;/n涂布模头模块,所述涂布模头模块安装在所述基片运动模块的基座上,所述涂布模头模块包括涂布模头、溶液腔和激光测距仪,所述激光测距仪和所述涂布模头设置在所述溶液腔上;/n升降模块,所述升降模块带动所述涂布模头模块升降;/n液体循环模块,所述液体循环模块安装在所述基片运动模块的基座上,所述液体循环模块包括输送泵、循环泵、输送泵基座、循环泵基座、输送管路、循环管路、回收管路、输送阀门、回收阀门、液体桶和回收桶,所述输送泵安装在所述输送泵基座上,所述循环泵安装在所述循环泵基座上,所述输送泵从所述液体桶中泵送液体至所述涂布模头模块的溶液腔中;及/n基片调整模块,所述基片调整模块设置在所述涂布装置的顶部并安装于所述基片运动模块的滑台上;/n所述液体循环模块还包括过滤器,所述过滤器位于循环泵和涂布模头之间,所述输送阀门控制输送液体的流动,所述循环泵从一侧循环管路抽取溶液腔内液体并泵送至涂布模头并带动液体沿循环管路、涂布模头、溶液腔、过滤器进行循环,所述回收管路两端分别连接循环管路和回收桶,所述回收阀门控制回收液体流动。/n
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